Электромагнитные поля и излучения. Воздействие на организм человека, гигиеническое нормирование, способы и средства защиты

ЭМП относят к неионизирующим излучениям. Естественными источниками ЭМП и излучений являются атмосферное электричество, радиоизлучения Солнца и галактик, электрическое и ЭМП Земли. Все промышленные и бытовые электро- и радиоустановки являются источниками искусственных полей и излучений, но разной интенсивности. Рассмотрим наиболее существенные источники этих полей.

 

Электростатические поля(ЭСП) возникают при работе с легко электризующимися материалами и изделиями, при эксплуатации высоковольтных установок постоянного тока.

 

Источниками постоянных электростатических и ЭМП являются: электромагниты с постоянным током и соленоиды, магнитопроводы в электрических машинах и аппаратах, металлокерамические магниты, используемые в радиотехнике.

 

Источниками электрических полей промышленной частоты (50 Гц) являются: линии электропередач (ЛЭП) и открытые распределительные устройства, включающие коммутационные аппараты, устройства защиты и автоматики, измерительные приборы, соединительные шины, а также все высоковольтные установки промышленной частоты.

 

МП промышленной частоты возникают вокруг любых электроустановок и токопроводов промышленной частоты. Источниками электромагнитных излучений радиочастот являются мощные радиостанции, антенны, генераторы сверхвысоких частот, установки индукционного и диэлектрического нагрева, радары, измерительные и контролирующие устройства, высокочастотные приборы и устройства в медицине, исследовательские установки.

 

Источником электростатического поля и электромагнитных излучений (ЭМИ) в широком диапазоне частот являются ПК; видеодисплейные терминалы на электронно-лучевых трубках, используемые в промышленности, научных исследованиях.

 

Длительное воздействие на человека ЭМП промышленной частоты приводит к различным расстройствам: головная боль, вялость, нарушение сна, снижение памяти, повышенная раздражительность, боли в сердце, нарушение ритма сердечных сокращений. Могут наблюдаться функциональные нарушения в сердечно-сосудистой системе, нервной системе, изменения в составе крови.

 

Предельно допустимые значения напряженности электрического и МП частотой 50 Гц в зависимости от времени пребывания в нем установлены ГОСТ 12.1.002 - 84 и СанПиН 5802-91.

 

Инфракрасное излучение - часть электромагнитного с длиной волны от 780 до 1000 мкм, энергия которого при поглощении веществом вызывает тепловой эффект. Наиболее активно коротковолновое излучение, так как оно обладает наибольшей энергией фотонов, способно глубоко проникать в ткани организма и интенсивно поглощаться водой, содержащейся в тканях.

 

У человека наиболее поражаемые инфракрасным излучением органы -кожный покров и органы зрения. Инфракрасные излучения нормируются по ГОСТ 12.1.005-88 и СанПиН 2.2.4.548-96.

 

УФИ, как и инфракрасное, является частью ЭМИ с длиной волны от 200 до 400 нм. Естественные солнечные УФИ являются жизненно необходимыми, оказывают благотворное стимулирующее действие на организм.

 

Излучение искусственных источников может стать причиной острых и хронических профессиональных поражений. Наиболее уязвимым органом являются глаза. Острые поражения глаз называются электроофтальмией. Попадая на кожу, ультрафиолетовые излучения могут вызывать острые воспаления, отек кожи. Может подняться температура, появиться озноб, головная боль. Допустимая плотность потока излучения в производственных помещениях регламентируется по СН 4557-88.

 

Лазерное излучение (ЛИ) представляет собой особый вид ЭМИ, генерируемых в диапазоне волн 0,1.. .1000 мкм. ЛИ отличается от других видов излучений монохроматичностью (строго одной длины волны), когерентностью (все источники излучения испускают электромагнитные волны (ЭМВ) в одной фазе) и острой направленностью луча.

 

Для защиты от воздействия ЛИ предусматриваются следующие меры: установка сигнальных устройств, экранов, ограждений; размещение установки в отдельном помещении; применение противолазерных очков и защитных масок; возможность дистанционного управления.